Kimyasal Peeling
Kimyasal peeling, cildin üst tabakasını (epidermis) kontrol altında soyarak, alt tabakalardaki daha genç ve sağlıklı cildin ortaya çıkmasını sağlayan bir cilt bakım yöntemidir.
Kimyasal peeling, cildin üst tabakasını (epidermis) kontrol altında soyarak, alt tabakalardaki daha genç ve sağlıklı cildin ortaya çıkmasını sağlayan bir cilt bakım yöntemidir. Bu yöntemde, cilde belirli kimyasal maddeler uygulanır ve cildin soyulması ve yenilenmesi teşvik edilir.
Kimyasal peeling, ciltteki kırışıklıkları azaltmak, lekeleri hafifletmek, akne izlerini gidermek, cilt tonunu düzeltmek ve genel olarak cildin görünümünü iyileştirmek için kullanılır. Bu amaçla farklı yoğunluklarda ve türlerde kimyasallar kullanılabilir.
Hafif kimyasal peelingler genellikle alfa hidroksi asitler (AHA) veya beta hidroksi asitler (BHA) gibi yumuşak kimyasallar içerir. Orta yoğunluktaki peelingler genellikle trichloroacetic acid (TCA) gibi kimyasallar kullanırken, derin peelingler fenol gibi güçlü kimyasallar içerebilir.
Kimyasal peeling işlemi genellikle birkaç seans halinde uygulanır ve her seans arasında belirli bir iyileşme süresi gerekebilir. Tedavi sonrasında ciltte kızarıklık, soyulma ve hassasiyet görülebilir, ancak genellikle kısa süreli etkilerdir ve iyileşme süreci sonrasında cilt daha genç, canlı ve pürüzsüz bir görünüm kazanır.
